郭爱云先生于2006年获得武汉理工大学材料加工工程硕士学位，师从材料学前辈薛亦渝教授。毕业后一直从事薄膜材料沉积工艺开发与薄膜制备设备的研究，先后与深圳中南国际集团、蚌埠华益导电膜玻璃公司和湘潭宏大真空设备有限公司合作。在薄膜沉积工艺和薄膜沉积设备方面拥有几十项专利，其中“大面积抗反射导电膜连续磁控溅射镀膜生产线”获评2013年度湖南专利奖一等奖、第十六届中国专利优 秀奖。“大面积连续磁控溅射真空镀膜生产线”的研发及应用获评2013年度湘潭市科学技术进步奖一等奖，“大面积连续磁控溅射真空镀膜成套装备关键技术与产业化”获评2014年度湖南省科学技术进步奖二等奖。

在2015年加入武汉科瑞达真空科技有限公司并担任技术总监，组织了一批在真空行业具有设计、制造、安装和产品调试经验的专业队伍，为广大客户提供多样化的真空镀膜系统方案设计与生产。主要涵括高真空磁控溅射镀膜机、磁控溅射镀膜生产线、多功能磁控溅射镀膜机、多层光学膜磁控溅射镀膜机、真空热处理炉、等离子化学气相沉积、柔性膜磁控溅射镀膜机、多功能溅射蒸发镀膜机、化学气相沉积镀膜和孪生旋转阴极等，可以灵活实现各类介质薄膜、金属薄膜以及化合物薄膜的沉积，满足了各种领域薄膜制备的要求。