产品名称：CRT-H750钕铁硼陶瓷柱表面金属化镀膜机

产品型号：CRT-H750SurfaceMetalizationCoaterSpecification

设备用途：钕铁硼陶瓷柱表面金属化镀膜机，采用磁控溅射工艺在钕铁硼陶瓷柱表面沉积铽（Tb）金属膜或者镝（Dy）金属膜，并通过扩散处理改善磁性陶瓷的性能。

科瑞达真空的CRT-H750镀膜机实现了小型陶瓷柱金属化镀膜的大批量批次生产，每天产能可达到4万个；适合钕铁硼磁性陶瓷柱表面金属化功能膜的镀膜，例如溅射铽、镝和铝等表面改性薄膜；镀膜机采用全自动化设计，连续批次生产，生产效率高，洁净度高，可靠性好。

卧式批次式磁控溅射镀膜机，分为四个部分：进出片腔体、前过渡腔体、镀膜工艺腔体和后过渡腔体；镀膜工艺腔体为标准真空镀膜腔体（每个腔体上设计有三个阴极安装门板上，每个门板可以安装两个平面阴极）；镀膜机配置有5台FF250/1600分子泵，并配有相应的前级抽气系统；工件架采用齿轮齿条公自转运行架；在进出片腔体前方设计有一个进片等待架，方便快速装载被镀膜工件，两套装载架，一用一装，可以快速配合生产。

技术特点：

1、大批量工业化生产；

2、生产线减少生产对环境和人体的损害；

3、较好控制渗镝和渗铽的量，节约了稀有材料的使用，提高了利用率；

4、增强了渗镝和渗铽的深度，提高性能；

5、标准化、模块化设计，工艺模块可以根据实际的生产需求进行局部的改善和调整；对工艺和产品的升级简单成本低。

技术参数：

1、安装：W7000*L7600*H1500mm；

2、腔体：W1650*L4800*H500mm

3、装载架：W1050*L1050mm；

4、靶材：孪生W110*L1050mm靶；或者孪生Φ110*L1050mm靶

5、被镀件：Φ5-Φ20的陶瓷柱；

6、真空范围：ATM*6*10-4Pa；

7、溅射：直流磁控溅射；

8、沉积率：小于0.5um/次，3-6分钟/次；

9、设计：真空腔和工艺模块化设计；

10、工艺：流量计和阀控工艺气体；

11、电源：380V50HZ

12、外接法兰：KF16和KF25

13、真空获得：机械泵、罗茨泵和分子泵

一、设备结构介绍：

该设备由真空室、真空泵组、装载架、阴极、真空计量和工艺气体控制系统组成。

（1）进出片腔体：尺寸W1570*L1450mm*H500mm的真空腔体，腔体板厚20mm外冷却，配有观察窗；真空抽气部分配置：1台2X-30机械泵，1台ZJP300罗兹泵；2台FF250/2000分子泵，1台2X-70机械泵；与大气之间采用独立翻板阀锁紧，动作简单有效；真空度达到8Pa少于60秒；

（2）前后过渡腔体：尺寸W1570*L1650mm*H500mm的真空腔体，腔体板厚20mm外冷却；真空抽气部分镀膜腔体和过渡腔共用前级：1台FF250/2000分子泵，1台2X-70机械泵（与镀膜室共用），电离规和电阻规安装在腔体顶上和管道上；气体隔离装置：与大气之间采用独立插板阀，动作简单有效；维持真空在10-1Pa-10-3Pa之间进行镀膜；基片架小车真空内平移，并实现快慢速转换；

（3）镀膜腔体：尺寸W1570*L1750mm*H500mm的真空腔体；真空抽气部分配置：4台FF250/2000分子泵；

二、溅射镀膜工艺系统

该设备溅射镀膜工艺系统由一个镀膜腔体组成，每个腔体上设计有三个工艺模块，每个工艺模块可安装两个平面阴极或者两个旋转阴极，Z多可安装6个平面阴极或旋转阴极；

孪生平面阴极，W100*L1050mm；孪生旋转阴极，Φ110*L1050mm；电源功率15-20kw的直流电源。