产品名称：立式蒸发镀膜机

产品型号：CRT-OPT2700EvaporationCoater

设备用途：大面积电子枪蒸发光电膜、光学膜和防指纹膜。

武汉科瑞达真空科技有限公司生产的CRT-OPT2700蒸发镀膜机为实现大量快速生产大面积光学膜镀膜和单层/多层表面改性膜而设计，本机为立式单腔体镀膜机，是一种基于电子枪蒸发的多层光学薄膜镀膜系统。本设备的主要产品蒸发沉积多层光学介质膜和防指纹膜等，例如，可见光彩色膜、铝反射膜、AF防指纹膜、低熔点有机物膜、可见光分光膜、可见光抗反射膜等，也可以为特定的简单光学特性膜系进行调试生产。

设备设计：

镀膜机为实现大批量、高质量和快速生产配置有一套12穴电子枪蒸发系统和一套蒸发舟蒸发系统。

镀膜机采用侧壁布置低温泵设计，每台由独立的阀隔离，可任意关闭和开启；四套修正板，一套可调修正板，保证镀膜均匀性的调整和镀膜的质量。

技术特点：

1、操作：全/半自动，操作方便；

2、抽气节拍；小于15min一炉子；

3、蒸发源：一套12穴电子枪；

4、蒸发源：一套电阻蒸发；

5、镀膜：光学膜和防指纹膜；

6、控制：InficonXTC3/S

上海膜林MXC-3B；

7、真空：低温泵罗茨泵和机械泵

9、离子源：霍尔离子源，4KW；

10、加热：采用碘钨灯管加热

11、工件架：Φ2650公转工装架；

12、工艺控制：TFC膜系软件。

技术参数：

1、安装：L45000*L5500*H3400mm；

2、内腔体：Φ2700*H1680mm

3、装载：Φ2650*H420mm不锈钢伞架；

4、靶材：12穴电子枪一套，铜水冷；

5、蒸发：一套电阻蒸发系统；

6、真空范围：ATM-6*10-4Pa；

7、离子源：霍尔离子源，4KW；

8、沉积率：MAC-3B/XTC3/S；

9、腔体加热：底灯丝加热6组，24KW；

10、真空：流量计和针阀控制工艺气体；

11、电源：220V50HZ

12、外接法兰：KF16和KF25

13、真空获得：机械泵、罗茨泵和低温泵

设备结构介绍：

该设备由真空室、真空泵组、工装架、膜厚监控、离子辅助、真空控制和钨等加热系统通过PLC集成控制组成。

１、镀膜工艺腔体

Φ2700*H1680mm的圆筒形内腔体（外壁焊接水冷）。侧壁板上布置有三台DZB550低温泵，粗抽为一台莱宝SV750BF和一台WAU4400组成，低温泵每台都有独立的挡板阀密封。门板上四个观察窗，两组底部灯丝加热，SUS304材质；腔体内壁安装有双层镜面板和防污板。腔体顶部安装有由自转系统和均匀性修正板；腔体底部六组灯丝加热系统，一台12穴铜坩埚电子枪蒸发系统、一套铜电极电阻蒸发系统、一套霍尔离子源辅助沉积系统，一套XTC3S或者MXC-3B膜厚控制系统、两套可调式均匀性调节板。腔体侧壁上设计有均匀进气系统，有两路流量计通过混气体罐连接腔体，通过流量控制调整镀膜真空度。

2、工艺系统

采用膜系设计软件进行光学多层膜膜系设计，生成控制参数并由晶振仪通过PLC进行膜层厚度沉积控制，由日本山武的流量计和截止阀通过真空反馈实时控制真空度的稳定。全自动镀膜系统，由爱科斯整合优化设计的全自动工艺程序，灵活、可靠、合理和顺通的执行程序，并实时对各个运行参数进行采集与存储，可分析灵活调用和分析成膜过程。