产品名称:立式蒸发镀膜机
产品型号:CRT-OPT2700EvaporationCoater
设备用途:大面积电子枪蒸发光电膜、光学膜和防指纹膜。
武汉科瑞达真空科技有限公司生产的CRT-OPT2700蒸发镀膜机为实现大量快速生产大面积光学膜镀膜和单层/多层表面改性膜而设计,本机为立式单腔体镀膜机,是一种基于电子枪蒸发的多层光学薄膜镀膜系统。本设备的主要产品蒸发沉积多层光学介质膜和防指纹膜等,例如,可见光彩色膜、铝反射膜、AF防指纹膜、低熔点有机物膜、可见光分光膜、可见光抗反射膜等,也可以为特定的简单光学特性膜系进行调试生产。
设备设计:
镀膜机为实现大批量、高质量和快速生产配置有一套12穴电子枪蒸发系统和一套蒸发舟蒸发系统。
镀膜机采用侧壁布置低温泵设计,每台由独立的阀隔离,可任意关闭和开启;四套修正板,一套可调修正板,保证镀膜均匀性的调整和镀膜的质量。
技术特点:
1、操作:全/半自动,操作方便;
2、抽气节拍;小于15min一炉子;
3、蒸发源:一套12穴电子枪;
4、蒸发源:一套电阻蒸发;
5、镀膜:光学膜和防指纹膜;
6、控制:InficonXTC3/S
上海膜林MXC-3B;
7、真空:低温泵罗茨泵和机械泵
9、离子源:霍尔离子源,4KW;
10、加热:采用碘钨灯管加热
11、工件架:Φ2650公转工装架;
12、工艺控制:TFC膜系软件。
技术参数:
1、安装:L45000*L5500*H3400mm;
2、内腔体:Φ2700*H1680mm
3、装载:Φ2650*H420mm不锈钢伞架;
4、靶材:12穴电子枪一套,铜水冷;
5、蒸发:一套电阻蒸发系统;
6、真空范围:ATM-6*10-4Pa;
7、离子源:霍尔离子源,4KW;
8、沉积率:MAC-3B/XTC3/S;
9、腔体加热:底灯丝加热6组,24KW;
10、真空:流量计和针阀控制工艺气体;
11、电源:220V50HZ
12、外接法兰:KF16和KF25
13、真空获得:机械泵、罗茨泵和低温泵
设备结构介绍:
该设备由真空室、真空泵组、工装架、膜厚监控、离子辅助、真空控制和钨等加热系统通过PLC集成控制组成。
1、镀膜工艺腔体
Φ2700*H1680mm的圆筒形内腔体(外壁焊接水冷)。侧壁板上布置有三台DZB550低温泵,粗抽为一台莱宝SV750BF和一台WAU4400组成,低温泵每台都有独立的挡板阀密封。门板上四个观察窗,两组底部灯丝加热,SUS304材质;腔体内壁安装有双层镜面板和防污板。腔体顶部安装有由自转系统和均匀性修正板;腔体底部六组灯丝加热系统,一台12穴铜坩埚电子枪蒸发系统、一套铜电极电阻蒸发系统、一套霍尔离子源辅助沉积系统,一套XTC3S或者MXC-3B膜厚控制系统、两套可调式均匀性调节板。腔体侧壁上设计有均匀进气系统,有两路流量计通过混气体罐连接腔体,通过流量控制调整镀膜真空度。
2、工艺系统
采用膜系设计软件进行光学多层膜膜系设计,生成控制参数并由晶振仪通过PLC进行膜层厚度沉积控制,由日本山武的流量计和截止阀通过真空反馈实时控制真空度的稳定。全自动镀膜系统,由爱科斯整合优化设计的全自动工艺程序,灵活、可靠、合理和顺通的执行程序,并实时对各个运行参数进行采集与存储,可分析灵活调用和分析成膜过程。