产品名称：立式双面磁控溅射镀膜机

产品型号：CRT-AC1200DoubleSideMagnetronSputteringCoater

设备用途：在玻璃、陶瓷和金属基材上实现双面沉积陶瓷、光学膜和金属膜。

武汉科瑞达真空科技有限有限公司设计的CRT-AC1200双面磁控溅射镀膜机为实现各种双面复合多功能膜层镀膜而设计，本机为立式单腔体，真空腔为箱式设计，在两个侧面上设计有通用的阴极安装法兰和维修门，可以按照实际工艺的需要安装各种模块，实现多种类型的沉积工艺和沉积膜层。本机可以灵活的采用多弧镀和溅射进行镀膜，广泛应用于在特种玻璃、陶瓷、塑料和纤维布上用多种镀膜方式进行复合膜层的镀膜沉积。

设备设计：

在箱式真空腔体的两个面上安装有标准安装法兰。可安装多弧阴极或者线性磁控溅射阴极，设有两个维修门，也可作为前处理安装法兰。采用铰链门结构，方便进出料。在真空腔体顶板上设有DN250mm的高真空抽气口，同时采用插板阀高真空隔离；在腔体的顶板上设有真空进气装置、真空检测装置和工艺气体进入装置；真空系统为分子泵和机械泵组成的两级真空抽气系统。

技术特点：

1、操作：全/半自动，操作方便；

2、抽真空节拍；小于20min一架；

3、沉积源：四套线性沉积源；

4、溅射源：直流电源和中频电源；

5、镀膜：双面金属、介质膜和光学膜；

6、膜厚控制：较精 确制动的沉积圈数；

7、真空：分子泵、罗茨泵和机械泵；

8、离子源：线性离子源；

9、加热：采用铠装加热管加热

10、工件架：进片推车手动对位；

11、工艺控制：工控电脑+PLC。

12、说明：在玻璃、陶瓷和金属平板材料上实现双面沉积陶瓷和金属膜层。

技术参数：

1、安装：W1800*L1800*H3200mm；

2、腔体：内空W1400*H1400*L480mm

3、装载：Φ1200*D5mm，嵌入式装载盘；

5、溅射：直流溅射/中频溅射/多弧阴极；

6、真空范围：ATM-6*10-4Pa；

7、离子源：线性离子源，4KW；

8、沉积率：较精 确控制的圈数；

9、进出片：手动对位托盘和小车；

10、真空：截止阀控制流量计工艺气体；

11、电源：三相四线制50HZ

12、外接法兰：KF16和KF25

13、真空获得：机械泵、罗茨泵和分子泵

设备结构介绍：由真空室、真空机组、工装系统、工艺控制系统和电气控制系统组成。

1、真空室

箱式不锈钢腔体（外壁水冷系统），铰链开门；SUS304不锈钢材质，配LF250标准安装法兰（含防污挡板）、视窗、预抽接口、分子泵接口、高低真空计接口和充气接口；腔体侧壁内部全部设计有反射板等。

2、真空机组

采用分子泵FF250/2000+机械泵2X-70提供高真空抽气，和工艺维护抽气系统；由机械泵2X-70提供腔体前级抽气系统，获得快速工件换装抽气。分子泵和高阀设计安装在腔体顶部或底部，配有相应的插板阀和气动角阀，配有复合式数显真空测量仪。

3、电气系统

电气系统包括真空机组控制、工装系统、真空测量控制等部分组成。有安全互锁机构，有效防止误操作发生。

4、工艺控制系统

工艺控制系统配置有四套线性溅射阴极、两套线性离子源、四套10KW电源、八套工艺流量计（带截止阀）、溅射挡板装置和工装加热旋转自动控制系统；配置有多组冷却水盘管，有效带走沉积过程中产生的热量。

5、工装系统

Φ1200*D5mm（工装夹具可定做），采用航空铝镂空沉台设计，边缘装夹夹具位小于2mm，配合双面镀膜工装；可以实现双面同时镀膜工艺。

6、多功能镀膜系统

本机设计在玻璃、陶瓷和金属平板材料上实现双面沉积陶瓷和金属膜层。