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圆筒磁控溅射镀膜机

圆筒磁控溅射镀膜机

  • 所属分类:单体镀膜机
  • 浏览次数:
  • 发布日期:2020-09-14 10:10:44
  • 产品概述
  • 性能特点
  • 技术参数

圆筒磁控溅射镀膜机

设备说明:用于小型颗粒表面沉积各种陶瓷、金属和复合膜层

1.腔体:Φ600*L450mm

2.MAX可镀工件:Φ100mm

3.极限真空度:优于2*10-4Pa

4.抽气时间:大气压~8*10-3Pa小于30min

5.溅射源:平面阴极或者旋转阴极

6.开启方式:上方铰链提拉结构

7.真空系统:机械泵+分子泵

8.样品加热:铠装加热管

技术特点:

1.本设备适用于沉积陶瓷柱、陶瓷珠、塑料珠(柱)、粉体等颗粒型基材镀膜,阴极可以推拉移出真空腔体,方便靶材安装和维护。

2.本设备适合企业、科研单位和高校产品特种材料镀膜中式使用,具有一定的批量产能。

3.该设备由真空室、真空机组、镀膜系统、工装系统和电气控制系统组成。

4.采用分子泵+机械泵作为高真空和工艺抽气;采用机械泵作为前级抽气。

5.镀膜材料:适合在各种颗粒型材料表面上沉积陶瓷、金属和复合膜层。

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