产品名称：卧式移动阴镀膜机

产品型号：CRT-HM1050HorizontalMovingCathodeCoater

设备用途：在钕铁硼、玻璃、特种金属和塑料块（柱或颗粒）表面上沉积镝Dy、铽Te和铝Al等金属和陶瓷膜。

武汉科瑞达真空科技有限有限公司的CRT-HM1050卧式移动阴极镀膜机为实现在钕铁硼陶瓷表面上实现Dy、Te和Al等功能膜层的生产线前期中式镀膜而设计，是一种基于线性阴极磁控溅射镀膜技术的特种镀膜机，本机可以采用线性磁控溅射阴极，如单/孪生平面磁控溅射阴极、单/孪生旋转磁控溅射阴极；因此可以采用多种磁控溅射工艺，直流磁控溅射、直流偏压磁控溅射、中频磁控溅射和射频磁控溅射为特定的膜层材料进行调试生产。

设备设计：

卧式平板连续磁控溅射镀膜被广泛应用于各种薄膜的大批量生产中。例如在大面积磁电薄膜、大面积光电薄膜、大面积导电膜、大面积建筑薄膜和特种表面改性薄膜等。每种薄膜具有它本身特种的镀膜工艺，在实现大面积连续生产之前，必须对生产工艺进行详细的考察和试验，并进行中试生产试验，本设备因此而设计。并可扩展至沉积各种陶瓷、金属、玻璃和塑料的柱状、块状和颗粒状形态表面。

技术特点：

1、操作：全/半自动，操作方便；

2、真空进片节拍；小于20min一架；

3、阴极：一套线性溅射阴极；

4、溅射电源：直流/中频；

5、镀膜：Dy、Te和Al等功能膜层；

6、膜厚控制：较精 确受控阴极移动次数；

7、真空：分子泵+罗茨泵和机械泵；

8、辅助源：偏压源；

9、加热：采用铠装加热管加热

10、工件架：全自动进出片；

11、工艺控制：全自动面板显示输入。

技术参数：

1、安装：W3600*L2000*H2400mm；

2、腔体：W1450*L1650*H650mm

3、装载：W800*L900mm；

4、阴极：线性溅射阴极；

5、靶材：Te（铽）、Dy（镝）、Al、Ti、Cr、Ni、Cu、Si、C（石墨）、In、Ga、ITO、AZO和GZO等

6、真空范围：ATM-6*10-4Pa；

7、辅助源：偏压源；

8、沉积率：较精 确受控的阴极移动次数；

9、真空：截止阀控制流量计工艺气体；

11、电源：三相四线制50HZ

12、外接法兰：KF16和KF25

13、真空获得：机械泵、罗茨泵和分子泵

设备结构介绍：由真空室、真空机组、工装系统、工艺控制和电气控制系统组成。

1、真空室

卧式不锈钢腔体（外壁水冷系统），底部抽气，铰链气缸上下升降开门；配φ100观察窗（含防污挡板）、预抽接口、分子泵接口、高低真空计接口和充气接口；腔体侧壁内部全部设计有加热反射板、配有四组Φ10的冷却管被挡板保护等，针对沉积Te（铽）、Dy（镝）工艺，可以通入冷却水或者冷却媒体进行腔体内部降温。

2、真空机组

采用两分子泵FF250+机械泵RVP24/TRP90提供高真空抽气；分子泵与真空室采用插板阀隔离，获得快速工件换装抽气。分子泵和高阀设计安装在腔体顶部或底部，配有相应的插板阀和气动角阀，配有复合式数显真空测量仪。

3、工装系统

W1000*L1050mm（工装夹具可定做），整个W800*L900mm区域为工装沉积区，有效沉积高度为小于25mm，工装系统由电机通过磁流体导入动力带动工件架运动，同时通过光电检测任意控制运行速度和运行位置；阴极移动动力也通过磁流体导入，速度任意调整。

4、溅射镀膜系统

真空腔体为W1450*L1650*H650mm的不锈钢腔体，在腔体的底部布置设计有抽气系统，真空监控装置，加热接口，冷却接口，可以任意配置中频孪生溅射阴极、中频平面溅射阴极、直流磁控溅射阴极和线性离子源辅助沉积系统。可以完成各种膜层的溅射镀膜。