产品名称：立式中试镀膜机

产品型号：CRT-V250PilotCoater

设备用途：样品制备，采用磁控溅射工艺沉积钼Mo、铝Al、AZO、铟镓InGa、铜镓CuGa、碲化镉CdTe等太阳能电池功能膜。

武汉科瑞达真空科技有限公司的CRT-H250中试镀膜机可以灵活的采用孪生磁控溅射工艺、直流共溅射工艺、直流溅射工艺、和射频溅射等镀膜工艺进行镀膜，广泛应用于CIGS薄膜太阳能电池、CdTe薄膜太阳能电池、金属导电层、实验室多种镀膜方式进行复合膜层的镀膜沉积。

设计和用途：

CRT-V250中试镀膜机为实现大面积连续磁控溅射工艺调试的试验线，采用模块化立式腔体设计，按照实际工艺的需要选用工艺模块，可以实现多种材料溅射工艺，共沉积工艺，也多种材料的复合膜层沉积。

镀膜机分为过渡段和镀膜工艺段；镀膜段有两个靶材尺寸为80*360mm的平面直流磁控溅射阴极；基片架子采用双导杆磁导向传送；基片架加热采用铠装加热管进行加热，同时采用铜电机石墨电接入，防止加热管电接入的稳定和真空打弧。

技术特点：

1、操作：全自动，操作方便；

2、阴极：38mm直径的0.1-2mm厚靶；

3、溅射：中频溅射、直流溅射和射频溅射；

4、较精 确控制：较精 确控制沉积膜层厚度，膜厚计为功率*时*次；

5、真空：针阀控制工艺气流量，稳定真空；

6、抽气：机械泵、分子泵和插板阀；

7、膜层质量：溅射沉积工艺可重复性好；

8、预设控制：预设定工艺参数，分子泵不停机，快速重复镀膜；

9、温度场：基片架采用铠装加热管加热

10、基片架：双导杆磁导向往复运行。

技术参数：

1、安装：W1460*L2260*H2020mm；

2、腔体：内空W220*L2200*H1020mm

3、装载架：W350*L350mm可装载区；

4、靶材：单靶/双靶80mm*360mm靶；

5、加热盘：W250*L250mm；

6、真空范围：ATM*10-5Pa；

7、溅射：直流、中频和射频磁控溅射；

8、沉积率：0-50nm/min，0.5nm精度；

9、设计：模块化，可增加模块；

10、工艺：流量计和针阀控工艺气体；

11、电源：220V50HZ

12、外接法兰：KF16和KF25

13、真空获得：机械泵、分子泵和插板阀

设备结构介绍：

该设备由真空室、真空泵组、装载架、阴极、真空计量和工艺气体控制系统组成。

1、真空室

箱式不锈钢腔体（外壁水冷系统），铰链开门；视窗、预抽接口、分子泵接口、KF高低真空计和充气接口；腔体侧壁内部全部设计有三层加热反射板、配有两组1.5KW铠装加热器、四个温度探测点、加热器被不锈钢溅射挡板保护等。

2、真空机组

两组分子泵FF200/1300+机械泵TRP12提供高真空抽气，和工艺维护抽气系统；由机械泵TRP12提供腔体前级抽气系统，获得快速工件换装抽气。分子泵和高阀设计安装在腔体顶部，配有相应的插板阀和气动角阀，配有复合式数显真空测量仪。

3、工艺系统

工艺控制系统配置有两套靶材为80*360mm的平面内置永磁阴极、一套进口AE双路5KW直流电源、四个工艺流量计（带截止阀）、溅射挡板装置和工装加热旋转自动控制系统；配置有多组冷却水盘管，有效带走沉积过程中产生的热量。

分子泵和高阀设计安装在腔体顶部，配有相应的插板阀和气动角阀，配有复合式数显真空测量仪，工艺真空可以从10-2Pa-5000Pa，可以满足溅射工艺，真空气氛退火工艺和气氛保护退火工艺等。